Установка очистки стоков в микроэлектронике
Опытная блочно-модульная установка предназначена для очистки стока предприятия микроэлектроники, содержащего различные органические соединения, включая ТМАН, до уровня загрязнений, позволяющих использовать методы биоочистки с применением активного ила.
ТМАН tetramethylammonium hydroxide (тетраметиламмония гидоксид) - четвертичное аммонийное соединение (CH3)4NOH, сильное органическое основание. Используется для травления печатных плат в микроэлектронной промышленности.
Для деструкции органических примесей используется технология интенсивного окисления, активированных гидроксильными радикалами - Advanced Oxidation Processes.
Примеры внедрения
Объект: предприятие микроэлектронной промышленности (Япония)
Исходная вода: технические и сточные воды, содержащие TMAH
Параметры исходной воды
ХПК 10 000 мг О2/л (пиковые значения - 100 000 мг О2/л, не более 10% от всего объема)
БПК5: 1 000 мг О2/л
TMAH - 10 000 мг/л